高温炉程控系统由计算机、接口电路、外部通用设备、工业生产对象组成，具体包括硬件结构和软件结构，硬件结构包括计算机、加热元件、接口电路、触发电路、检测元件和执行机构等。软件操作方式和用户界面都是根据用户的特点而设计的，用户在使用时操作简单、方便、灵活。主要用于各工矿企业、科研单位化验室、实验室加温、热处理，是各类化验室中*的仪器设备。设备特点升温快：1000C炉型由100C升温至1000C，小于30分钟；1700度炉100C升温至1700C，小于90分钟。效率高：作实验炉用时，......

真空气氛保护炉是针对工业领域日常应用研发的，的焙烧效果、现代化的外型设计及高度的可靠性是此类电炉的突出特色。产品以进口电阻丝为加热元件，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料。采用微电脑微电脑控制，操作方便，可编程，自动升温、自动保温、自动降温。真空气氛保护炉主要应用于电真空、航空航天、电力电子、机械加工行业。可对不锈钢、无氧铜、金属化陶瓷件、轴类零件的垂直热处理和其它模具钢、合金钢、汽车零部件等机械零件在预抽真空氮气保护气氛下无氧化回火、光亮退火以及铜和铜合金的光亮热处理之用。仪......

气氛保护炉，又称气氛炉，由马弗炉演化而成。主要的目的是在高温烧结的情况通入某种特定气体用于特殊热处理，或者对热处理的样品进行保护防止氧化。目前市场上使用气氛保护多以防止氧化为主。适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行烧结。产品结构该箱式炉主要由炉壳、炉衬、加热元件、炉底板、炉门及......

高温炉程控系统由计算机、接口电路、外部通用设备、工业生产对象组成，具体包括硬件结构和软件结构，硬件结构包括计算机、加热元件、接口电路、触发电路、检测元件和执行机构等。软件操作方式和用户界面都是根据用户的特点而设计的，用户在使用时操作简单、方便、灵活。主要用于各工矿企业、科研单位化验室、实验室加温、热处理，是各类化验室中*的仪器设备。高温炉程控系统采用交流电供电、可控硅的连接电路，由触发电路产生一个同步脉冲，由1-2端与双向可控硅相连，RDS为快速熔断器，其作用为可控硅的过电流......

立式真空管式炉均系采用技术研制开发的高性能高节能的新型电炉，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。立式真空管式炉均系周期作业式。供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和一般小型钢件的淬火、退火、回火和电子陶瓷等新材料的加热用。本系列设备的成套供应范围有温度控制器、热......

立式真空管式炉均系采用技术，自行研制开发的高性能高节能的新型电炉，有单管、双管、卧式、可开启式、立式、单温区、双温区、三温区等多种管式炉型。主要应用于大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高、温区多、可选配气氛、抽真空炉型等。立式真空管式炉各独立的加热区均配备有热电偶、数显式智能调节器（PID）和可控硅组成的闭环控制系统，可实现自动控温，操作起来也很方便。针对实验的使用要求，装卸料采用间歇......

管式炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和多段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，管式炉炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料，管式炉双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，采用耐高温不锈钢、两端用不锈钢法兰密封，可通氮气、氢气、氨气、氯气等，用浮子流量计控制进气流量、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点，是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品。碳硫分析仪与管式炉配套使用，能快速、地测定钢、铁及其合金、有色金属、水泥、矿......

高温真空气氛炉主要用途冷热作模具钢、高速钢、弹性合金、高温合金、马氏体不锈钢、钛合金、磁性材料等材料的高压气淬以及真空烧结、真空钎焊等工艺。高温真空气氛炉可以对航空航天工业及其他机械工业所使用各类零部件进行相关的热处理，如：18CrNi8、12Cr2Ni4A、12Cr2Ni3A等高合金渗碳钢的渗碳及渗碳后的淬火、机构渗碳钢的渗碳及渗碳后的淬火、工模具钢、精密轴承、油泵油嘴机械件、精密机器零件等各种结构钢的油淬、气冷、回火、退火等。高温真空气氛炉内冷却水不及时排空，很容易把机器......