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真空钼丝炉

简要描述


真空钼丝炉用途:适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

  • 更新时间:2016-03-19
  • 厂商性质:生产厂家
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 真空钼丝炉的详细介绍

真空钼丝炉具有*的性能设计,集多项于一身,安全性,可靠性,实用性均达zui佳效果。
一、特点及用途
实验室专用热处理炉,底部装料,操作方便,占地小,真空或充气两用。适用于金属材料高温烧结、热处理、脱气、金属陶瓷化、粉末烧结、荧光粉等处理。也适用于无机非金属材料的高温烧结等处理。还适用于材料的真空钎焊处理。
二、结构说明
1.全不锈钢结构,外表亚光处理,内部精密抛光处理。
2.底装料式,操作方便。
3.结构炉体,结构电极,技术先进。
4.扩散泵+直联式机械泵+高真空全不锈钢挡板阀性能可靠。
5.底部可移动式结构,搬运方便。
6.金属钼丝加热,全金属隔热屏,无碳污染问题,特有技术保证长期使用不变形。
7.极限真空度达到1×10-3Pa
 
 
 GR.VMWF系列型号及规格
 
型号
炉膛尺寸(mm)
(DxH)
功率
(KW)
zui高温度
℃)
额度温度
(℃)
加热元件
电压
(V
GR.VMWF8/17
Ф80×100
25
1700
1650
钼丝
380
GR.VMWF15/17
Ф150×200
30
1700
1650
钼丝
380
GR.VMWF20/17
Ф200×300
36
1700
1650
钼丝
380
GR.VMWF30/17
Ф300×400
40
1700
1550
钼丝
380
 
,咨询
 
另:我公司可以根据客户具体要求进行非标设计与制造。

 

 

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