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真空熔炼炉

简要描述


真空熔炼炉用途:适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备

  • 更新时间:2018-05-07
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真空熔炼炉
GR.VMF系列真空熔炼炉详细介绍
GR.VMF系列,具有*的性能设计,集多项于一身,安全性,可靠性,实用性均达zui佳效果。
小型广泛应用于大专院校及科研单位,在真空或保护气氛条件下对金属材料(如不锈钢、镍基合金、铜、合金钢、镍钴合金、稀土钕铁錋等)的熔炼处理,也可进行合金钢的真空精炼处理及精密铸造。
一、技术参数
1设备名称:真空感应熔炼炉
2冷态极限真空度:5×103Pa
3额定温度:1700
4. 额定功率:15KW
5. ;坩埚容量:100g500g(熔液)
6压升率:≤2Pah
7中频电源:IGBT
二、结构说明
本产品由炉盖、炉体、回转机构、浇注装置、真空系统及高频电源控制系统等组成。
1、炉体:为全不锈钢结构。炉壳采用双层水冷结构,保证炉壳温度不超过50。炉盖打开方式为手动,并加有锁紧装置,炉盖上设有观察孔及屏蔽等。
2、回转机构:与炉体用法兰连接,感应线圈由铜管绕成螺旋形从炉体引出,采用威尔逊密封,密封可靠。
3、浇注装置:在坩埚旁边从炉体内生一平台,上面放置錠模,料熔炼好以后转动手柄,将坩埚内的料倾倒在錠模内。
4、真空系统:采用二级泵,油扩散泵(或分子泵)与直联泵。真空机组上设有放气阀及充气阀。
5、电源:电源采用IGBT进口功率器件,更加集成化小型化,有效输出功率达到90%以上,省电节能,比传统可控硅中频节能60%!,电气系统设有过流、过压返馈及保护电路。

 

 

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