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真空箱式炉 1600℃

真空箱式炉 1600℃

简要描述: 该真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和厦门宇电50段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,真空电阻炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理;也可以用于特殊材料的热处理。

  • 生产地址:上海
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2024-10-16
  • 访  问  量:2474
详细介绍

 

一、真空箱式炉的应用领域

真空箱式炉以1800型硅钼棒为加热元件,采用双层壳体结构和厦门宇电50段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,真空电阻炉广泛应用于金属材料在低真空、还原性、保护性气氛下的热处理;也可以用于特殊材料的热处理。

二、真空箱式炉的主要特点   

炉门口安装有水冷系统,气体经过流量计后由后膛进入,并有多处洗炉膛进气口,出气口处有燃烧嘴,可以通氢气、氩气、氮气等气体,能抽真空,真空度可达1pa,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院所、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。

三、真空箱式炉的规格型号

设备型号 GR.VBF8/16 GR.VBF12/16 GR.VBF18/16 GR.VBF36/16
zui高温度 1600℃ 1600℃ 1600℃ 1600℃
额定温度 1500℃ 1500℃ 1500℃ 1500℃
控制精度 ±1℃ ±1℃ ±1℃ ±1℃
炉膛尺寸(mm)
(DxH)
200×200×200 300×200×200 300×250×250 400×300×300
发热元件 硅钼棒 硅钼棒 硅钼棒 硅钼棒
冷态极限真空 1pa 1pa 1pa 1pa
冷态压升率 ≦10~20pa/h ≦10~20pa/h ≦10~20pa/h ≦10~20pa/h
zui大功率 4kw 7kw 9kw 16kw

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